添加 2.5% Zr 后，形成致密的 Nb₂O₅-ZrO₂复合氧化膜，在 40% 氢氟酸中腐蚀速率从 0.1mm / 年降至 0.01mm / 年，寿命延长 10 倍，用于半导体芯片蚀刻设备管道。
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