关键技术要点包括保证钽箔的纯度和表面质量，纯度不足或表面有杂质会影响沉积薄膜的质量；控制靶材的密度和致密度，均匀致密的靶材可使沉积过程更稳定，薄膜厚度和成分更均匀；合理设置沉积参数，如真空度、溅射功率、溅射气体种类和流量等，这些参数会影响钽原子的溅射速率和沉积速率，进而影响薄膜的性能和质量；此外，还需注意靶材的冷却，防止因温度过高导致靶材变形或性能改变。
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