表面光洁度 Ra≤0.1μm 的铌箔如何制备？

2025-03-07

采用 “冷轧 - 退火 - 电化学抛光” 工艺：

冷轧至 0.05mm 厚度，道次压下率≤15%

真空退火（1200℃×2h）消除加工硬化

电化学抛光（磷酸 + 硫酸电解液，电流密度 5-8A/dm²）
最终表面粗糙度 Ra≤0.1μm，用于锂离子电池隔膜、真空电子器件等领域。

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